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HD Studio Photogenic - Foundation ist ein Produkt der Kategorie Teint (Make-Up) von NYX. Es wird noch produziert.
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Kategorie
Inhaltsstoffe (INCI)
Water/Aqua/Eau, Cyclopentasiloxane, Diethylhexyl Maleate, Butylene Glycol, Cetyl PEG/PPG-10/1 Dimethicone, Cyclomethicone, Ethylhexyl Methoxycinnamate, Dimethicone, Sodium Chloride, Kaolin, Orbignya Oleifera Seed Oil, Sorbitan Olivate, Salicornia Herbacea Extract, Hydrogenated Vegetable Oil, Acetyl Hexapeptide-8, Palmitoyl Pentapeptide-4, Dimethicone Crosspolymer, Disteardimonium Hectorite, Sorbitan Sesquioleate, Dimethiconol, Caprylic/Capric Triglyceride, Methyl Methacrylate Crosspolymer, Dimethicone/Vinyl Dimethicone Crosspolymer, Hydrated Silica, Copper Tripeptide-1, Aluminum Hydroxide, Propylene Carbonate, Triethoxycaprylylsilane, VP/VA Copolymer, Hydroxypropyl Methylcellulose, C12-14 Pareth-7, Amodimethicone, Adipic Acid/Neopentyl Glycol Crosspolymer, Phenoxyethanol, Chlorphenesin. MAY CONTAIN / PEUT CONTENIR (+/-): Mica, Titanium Dioxide (CI 77891), Iron Oxides (CI 77491, CI 77492, CI 77499), Zinc Oxide (CI 77947). (Angaben ohne Gewähr)
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PontNeuf, letzte Aktualisierung am 19.02.2019
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